上海 KRI 考夫曼離子源真空鍍膜應用
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
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霍爾離子源 射頻離子源 考夫曼離子源 離子源自動控制器
KRI 射頻離子源典型應用 LED-DBR 輔助鍍膜
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離子源典型應用: 射頻離子源 RFICP 325 安裝在 1650 mm 蒸鍍機中, 實現離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean, 完成 LED-DBR 鍍膜生產 |
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KRI 射頻離子源典型應用 IBE 離子蝕刻
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離子源典型應用: 安裝在離子蝕刻機中的 KRI 射頻離子源, 對應用于半導體后端的6寸晶圓進行刻蝕 |
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KRI 射頻離子源應用于塑膠光學鏡頭鍍膜
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離子源典型應用: 應用于智能型手機鏡頭, 車用鏡頭, VR 虛擬現實鏡頭的塑膠光學鏡頭鍍膜, 通過使用射頻離子源 RFICP 325 成功鍍膜于塑膠基板并且通過 1,500 小時高溫高濕嚴苛環境測試 |
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KRI 霍爾離子源典型應用 IBE 離子刻蝕
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離子源典型應用: 安裝在小型離子蝕刻機中的 KRI 霍爾離子源 EH 400 HC, 對 2英寸硅芯片蝕刻 |
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KRI 霍爾離子源典型應用 IBAD 輔助鍍膜
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離子源典型應用: 直徑 2.2m 蒸鍍機, 霍爾離子源用于蒸鍍直徑 1.5m 天文望遠鏡鏡片全反射膜, 僅需安裝1臺 EH 3000 HC 霍爾離子源, 即可完成鍍膜, 直接降低企業成本! |
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KRI 霍爾離子源典型應用 PC 預清潔后,IBAD 輔助鍍膜
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上海伯東離子源典型應用: 霍爾離子源應用于光學鍍膜機加裝, 鍍膜腔體約 2 m3, 加裝霍爾源 EH 4200, 實現預清潔 PC 和輔助鍍膜 IBAD |
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KRi 霍爾離子源典型應用濺鍍鍍膜預清潔工藝 Pre-clean
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霍爾離子源典型應用: EH400F 應用于 6寸硅片電源管理集成電路芯片 PMIC 濺鍍鍍膜前預清潔工藝 Pre-clean, 在電源管理集成電路芯片 PMIC 的壓電材料鍍膜前有效的將硅片做清潔及平整化處理, 提高膜層的附著力及提高生產良率. |
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KRI 考夫曼離子源典型應用 IBF 離子束拋光工藝
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上海伯東離子源典型應用: 考夫曼離子源通過控制離子的強度及濃度, 使拋光刻蝕速率更快更準確, 拋光后的基材上獲得更平坦, 均勻性更高的薄膜表面 |
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