<tr id="ggnr9"></tr>

  • <big id="ggnr9"><nobr id="ggnr9"><track id="ggnr9"></track></nobr></big>

    KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC

    1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
    離子源     霍爾離子源                                           射頻離子源                       考夫曼離子源                              離子源自動控制器

    KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列, 柵極燈絲型離子源, 通過加熱燈絲產生電子, 提供低電流高能量離子束. 離子束可選聚焦,平行, 散設三種方式, KDC 系列離子源適用于離子濺鍍和蒸發鍍膜 PC, 輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD, 表面改性, 激活 SM, 離子濺射沉積和多層結構 IBSD, 離子蝕刻 IBE 等.

    KRI 考夫曼離子源 KDC 系列

    離子源通過加熱燈絲產生離子束, 低濃度高能量寬束型離子源

    型號

    KDC 10

    KDC 40

    KDC 75

    KDC 100

    KDC 160

    離子束流

    >10 mA

    >100 mA

    >250 mA

    >400 mA

    >650 mA

    離子動能

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    柵極直徑

    1 cm Φ

    4 cm Φ

    7.5 cm Φ

    12 cm Φ

    16 cm Φ

    離子束

    聚焦, 平行, 散射

    KRI 考夫曼離子源 KDC 75

    考夫曼離子源 KDC 75
    尺寸: 直徑= 5.5“ 高= 7.9”
    離子束動能: 100-1200 eV
    電流: 250 mA

    考夫曼離子源

    KRI 考夫曼離子源 KDC 10

    考夫曼型離子源 KDC 系列最小型號的離子源
    尺寸:直徑= 1.52“ 高= 4.5”
    離子束動能: 100-1200 ev
    電流: 10 mA

    考夫曼離子源  KDC 10

    KRI 考夫曼離子源 KDC 40

    考夫曼離子源 KDC 40
    尺寸: 直徑= 3.5“ 高= 6.75”
    離子束動能: 100-1200 eV
    電流: 120 mA

    考夫曼離子源 KDC40

    KRI 考夫曼離子源 KDC 100

    考夫曼離子源 KDC 100 中型規格柵極離子源,廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產設備中

    KRI 考夫曼離子源 KDC 160

    考夫曼離子源 KDC 160
    尺寸: 直徑= 9.1“ 高= 9.92”
    放電電壓: 100-1200 eV
    電流: 800 mA

    考夫曼離子源 KDC160

    1
    国产在线拍揄自揄视频菠萝,亚洲另类激情专区小说图片,国内午夜免费一级鲁丝片,他把胸罩撕了捏胸吃奶

    <tr id="ggnr9"></tr>

  • <big id="ggnr9"><nobr id="ggnr9"><track id="ggnr9"></track></nobr></big>