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    KRI 霍爾離子源 Gridless End-Hall

    1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
    離子源     霍爾離子源                                           射頻離子源                       考夫曼離子源                              離子源自動控制器

    霍爾離子源 Gridless 提供高電流低能量 end-Hall 系列產品, 包含寬束霍爾型離子源和電源控制器, 整體設計, 易于系統集成, 霍爾離子源典型應用: 輔助鍍膜 IABD, 鍍膜預清潔 ISSP, 離子蝕刻等

    KRI 霍爾離子源 eH 系列

    霍爾離子源無柵極, 高濃度, 低能量寬束型離子源

    型號

    eH 200

    eH 400

    eH 1000

    eH 2000

    eH 3000

    離子束流

    2A

    5A

    10A

    10A

    20A

    離子動能

    30-300 V

    50-300 V

    100-300 V

    50-250 V

    50-250 V

    柵極直徑

    2.5”

    3.7”

    5.7”

    5.7”

    9.7”

    離子束

    > 45°散射

    KRI 霍爾離子源 eH 400

    霍爾離子源 eH 400
    尺寸:直徑= 3.7“ 高= 3”
    離子束動能: 50-300eV
    電流: 5a

    霍爾離子源 eh400

    KRI 霍爾離子源 eH 1000

    霍爾離子源 eH 1000
    尺寸:直徑= 5.7“ 高= 5.5”
    離子束動能: 50-300V
    電流: 10A

    霍爾離子源

    KRI 霍爾離子源 eH 2000

    霍爾離子源 eH 2000
    尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
    離子束動能: 50-300V
    電流: 10A 或 15A

    霍爾離子源eh2000

    霍爾離子源 eH 3000

    霍爾離子源 eH 3000
    尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
    放電電壓: 50-300V
    電流: 20A

    霍爾離子源eh3000

    霍爾離子源 eH 200

    eH200 是霍爾離子源型eH 系列中尺寸最小,低成本設計離子源

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